脉冲激光沉积系统优点

脉冲激光沉积系统为一种在化学领域进行应用的工艺试验仪器。脉冲激光沉积，又被叫做脉冲激光烧蚀，为一种通过激光轰击物体，之后在不同的衬底上沉淀轰击出来的物质，使沉淀或者薄膜获得的一种手段。

脉冲激光沉积系统优点

1、能够任意调节工艺参数，不会限制靶材的种类。

2、不仅有着巨大的发展潜力，而且所具有的兼容性也很大。

3、清洁处理十分方便，能够对多种薄膜材料进行制备。

4、产生等离子体的能源采用高光子能量和高能量密度的紫外脉冲激光，所以不仅没有污染，而且控制起来也相对比较容易。

5、烧蚀物粒子有着非常高的能量，能够对化学计量进行精确地控制，使得靶膜成分几乎相同得以实现，使控制膜组分的工作简化了，对于制备具有复杂成分和高熔点的薄膜尤为合适。

6、获得期望化学计量比的多组分薄膜较为容易，并且所具有的保成分性良好。

7、有着较高的沉积速率，有着较短的试验周期，有着较低的衬底温度，能够均匀地制备薄膜。

8、在生长过程中能够将多种气体原位引入，能够在反应气氛中制膜，此将另一条途径提供给了薄膜组分的控制。

9、多靶材组件能够灵便地进行变换，对于多层膜及异质结的制备相对比较容易，有着较为简单的工艺，有着较大的灵活性，能够制备种类较多的薄膜。

10、能够使用激光对薄膜进行多种处理等

2007-02-01 浏览次数：195次本文来源：https://www.yiqi.com/daogou/detail_4844.html